Toshiba
Corporation (TOKYO: 6502) anunció hoy la línea de tecnologías
innovadores que traerá a "nano tech 2013 - La 12ava Exhibición y
Conferencia Internacional sobre Nanotecnología", la exhibición más
grande del mundo en nanotecnología, que tendrá lugar en el Tokyo Big
Sight entre el 30 de enero y el 1 de febrero http://www.nanotechexpo.jp/en/index.html
Toshiba tiene operaciones en todo el mundo en el segmento comercial de
la comunidad inteligente al que se considera un área de crecimiento
futuro. En la próxima exhibición, Toshiba mostrará su nanotecnología de
próxima generación que ayudará a impulsar la "innovación total en
almacenamiento" y la "innovación total en energía". Estas innovaciones
servirán como catalizadoras para la realización del concepto de la
comunidad inteligente propuesto por Toshiba Group.
Toshiba Group presentará su amplia gama de nanotecnologías en 14 campos
tecnológicos en tres áreas de exhibición, cada una de las cuales se
concentrará en "innovaciones totales en almacenamiento", "materiales
avanzados y sofisticados" e "innovaciones totales en energía".
Muestras
1. Innovaciones totales en almacenamiento
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1.
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Memoria flash NAND con tecnología de proceso avanzada
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Tecnología de proceso NAND de 19 nm de última generación;
demostración de velocidad de unidad híbrida (unidad de disco duro
integrado con memoria flash NAND)
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2.
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Cabezal en estructura de tres capas para unidad de disco duro
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Tecnologías de materiales y diseños para nanoestructuras y películas
magnéticas necesarias para realizar cabezales de lectura para
unidades de disco duro de gran capacidad
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3.
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Tecnología de estampado de máscara de última generación
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Tecnología de estampado de máscara e-beam de última generación
(dispositivo hp22nm) requerida para los procesos de semiconductores
de próxima generación
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4.
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Litografía de autoensamblaje dirigida (Directed Self-Assembly
Lithography (DSAL)
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Tecnología de nanoestampado de bajo costo para el nodo de 10 nm por
revestimiento polimérico, templado y desarrollo
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5.
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Técnica de análisis de material avanzada con resolución espacial
nanométrica
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Tecnología de análisis de estructura de dispositivo a nivel atómico
que respalda la fiabilidad de los semiconductores
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6.
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Películas de conducción transparente compuestas de nanohilos de
grafeno y plata
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Tecnología para formar películas de múltiples placas compuestas de
grafeno, nanohilos de plata y polímeros para realizar películas de
conducción transparentes que ayudan a reducir el peso y aumentan la
flexibilidad de los dispositivos fotoeléctricos
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2. Materiales avanzados y sofisticados
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1.
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Cerámicas de nitruro con elevada conductividad térmica
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Tableros de cerámica de alta conductividad térmica, gran aislamiento
y alta resistencia para reducir el consumo de energía, reducir el
tamaño y mejorar el desempeño de componentes y módulos electrónicos
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2.
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Materiales luminiscentes controlados por nanoestructura (Fósforo
S-SIALON / centelleador de rayos-x Gd2O2S:Pr
(GOS))
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Tecnología de material de fósforo que permite el control de emisión
de luz de acuerdo con aplicaciones como iluminación LED y sistemas
de inspección y por rayos-X
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3.
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Material de tungsteno de nuevas características (fotocatalizador,
electrodos sin toria)
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La tecnología de material de tungsteno que lleva a la manifestación
de nuevas características o alto rendimiento como fotocatalizadores,
electrodos termiónicos, etc.
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3. Innovaciones totales en energía
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1.
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Fotovoltaica orgánica
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Tecnología de control de nanoestructura para películas orgánicas
para realizar celdas fotovoltaicas de película orgánica con la
eficiencia de conversión más grande del mundo adecuada para uso en
iluminación de interiores
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2.
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Imanes permanentes para motores sin disprosio
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Tecnología de fabricación a nanoescala para materiales magnéticos
para realizar motores de gran eficiencia con menores riesgos de los
recursos naturales
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3.
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Batería SCiB™ recargable para aplicaciones automotoras y
estacionarias
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Tecnología y aplicaciones con electrodos Nano LTO compuestos para
producir baterías recargables de alto desempeño con gran
entrada/salida, baja resistencia y larga vida
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4.
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Filtro de superconducción para radares climáticos
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Tecnología de control de nanointerfaz para un filtro de
superconducción diseñado para radares climáticos capaces de observar
aguaceros torrenciales localizados
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5.
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Iluminación de próxima generación (iluminación OLED, fuente de luz
de excitación LD)
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Tecnología de control de estructura de película orgánica para
realizar iluminación OLED para la vida diaria y fuentes de luz de
excitación LD
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Acerca de Toshiba
Toshiba es un fabricante diversificado, proveedor de soluciones y
comercializador líder en el mundo de productos y sistemas electrónicos y
eléctricos de avanzada. El Grupo Toshiba aporta innovación e imaginación
a una amplia gama de negocios: productos digitales, entre los que se
incluyen televisores LCD, computadoras portátiles, soluciones minoristas
e impresoras multifunción (multifunction printers, MFP); dispositivos
electrónicos, entre los que se incluyen semiconductores, productos y
materiales de almacenamiento; sistemas de infraestructura industrial y
social, incluidos los sistemas de generación de energía, soluciones
comunitarias inteligentes, sistemas médicos y escaleras mecánicas y
elevadores; y electrodomésticos.
Toshiba fue fundada en 1875 y, actualmente, opera una red global de más
de 550 compañías consolidadas, con 202.000 empleados en todo el mundo y
ventas anuales que exceden los 6,1 billones de yenes
(74.000 millones USD). Visite el sitio web de Toshiba en www.toshiba.co.jp/index.htm
La información en el documento, incluido los precios y las
especificaciones del producto, el contenido de servicios y la
información de contacto es actualizada a la fecha de este anuncio de
prensa, pero está sujeta a cambios sin previo aviso.
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