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Inpria desarrolla junto a SK hynix las resistencias de óxido de metal para reducir la complejidad de los patrones de DRAM de última generación
JSR Corporation anunció hoy su acuerdo de desarrollo conjunto con SK hynix Inc. para aplicar Inpria, una resistencia de óxido de metal (MOR) con litografía ultravioleta extrema (EUV) de una empresa de JSR para la fabricación de chips DRAM ...
Communicado publicado en el 02/08/2022 - 23:15
Los Líderes de la Industria Unen sus Fuerzas para Promover la Nueva Interconexión de Alto Rendimiento
Una nueva sociedad, Gen-Z Consortium, para desarrollar tecnología de estructura escalable, de alto rendimiento orientada a simplificar el acceso a los datos en escala de rack.
Communicado publicado en el 12/10/2016 - 00:54
Lunes 23 de diciembre - 17:37
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