En la Conferencia sobre Tecnología Global inaugural realizada hoy,
GLOBALFOUNDRIES anunció que ha llegado a la etapa final de diseño de un
vehículo calificado basado en el procesador dual ARM® Cortex™-A9
[(LSE: ARM); (Nasdaq: ARMH)], una industria pionera en tecnología de
compuerta metálica High-K (High-K Metal Gate, HKMG) de 28 nanómetros
(nm). Este vehículo de calificación tecnológica (Technology
Qualification Vehicle, TQV) permitirá a GLOBALFOUNDRIES optimizar su proceso
HKMG de 28 nm para diseños del cliente basados en el procesador ARM
de doble núcleo de próxima generación, lo que proporciona un camino más
rápido para presentarlos en el mercado ante los clientes del área de
fundiciones que están desarrollando los dispositivos informáticos del
mañana.
El TQV desarrollado en conjunto alcanzó la etapa final de diseño en
agosto en la planta de fabricación 1 de GLOBALFOUNDRIES en Dresden,
Alemania, y fue parte de la colaboración estratégica con ARM anunciada el
año pasado. Se esperan los resultados con silicona obtenidos en la
planta para fines de 2010.
“Este es un hito significativo en el camino hacia la fabricación de 28
nm de alto volumen y hacia el liderazgo tecnológico en productos de
próxima generación, que abarcan desde dispositivos móviles inteligentes
hasta aplicaciones con cables de alto rendimiento”, dijo Mojy
Chian, vicepresidente sénior de Habilitaciones de Diseño en
GLOBALFOUNDRIES. “Trabajando de cerca con ARM en las primeras etapas de
la calificación tecnológica, le daremos la posibilidad a nuestros
clientes de acercar rápidamente a la producción sus diseños ARM
Cortex-A9 con IP físico mediante el establecimiento de un nuevo estándar
para el rendimiento y la eficacia de potencia”.
El diseño TQV utiliza un conjunto de servicios de IP físico ARM
Cortex-A9 totalmente optimizado, que incluye una completa variedad de
circuitos célula estándar, macros de memoria caché de alta velocidad
para L1 y memorias de densidad optimizada en otras áreas. Está diseñado
para emular un sistema en un chip (system-on-chip, SoC) similar al
producto en todos los aspectos, lo que permite un análisis de frecuencia
máxima y un tiempo de recuperación breve entre los ciclos de diseño. Una
completa variedad de diseño para pruebas (Design for Testability, DFT)
permite la correlación entre la silicona y el Programa de simulación con
énfasis en circuitos integrados (Simulation Program with Integrated
Circuit Emphasis, SPICE) con respecto a los caminos críticos de
Cortex-A9 y el mapeo de bit de memorias caché a velocidades de gigahertz.
“A medida que la industria adopta tecnologías de procesos cada vez más
avanzados, existe una creciente necesidad de una colaboración más
estrecha entre el diseño y la fabricación”, expresó Simon
Segars, vicepresidente ejecutivo y gerente general de la división IP
Físico de ARM. “La combinación de las soluciones líderes de IP físico de
ARM y la experiencia probada de GLOBALFOUNDRIES en la fabricación de
alto volumen generará una poderosa plataforma para la innovación.
Nuestra sociedad permitirá a los clientes lanzar rápidamente al mercado
diseños basados en tecnología ARM de baja potencia con una tecnología
HKMG de 28 nm”.
El TQV se basará en una tecnología de alto rendimiento (High
Performance, HP) de 28 nm dirigida a las aplicaciones cableadas de alto
rendimiento. La colaboración también incluirá la tecnología de alto
rendimiento superior (High Performance Plus, HPP) de 28 nm, tanto para
las aplicaciones cableadas como móviles de alto rendimiento, y la
tecnología de súper baja potencia (Super Low Power, SLP) para
aplicaciones para el consumidor y móviles sensibles a la potencia. Todas
las tecnologías presentan el innovador enfoque de primera compuerta
hacia HKMG. El enfoque es superior a otras soluciones HKMG de 28 nm,
tanto en escalabilidad como en fabricación, y ofrece un chip y un costo
sustancialmente menores, así como la compatibilidad con elementos de
diseño y flujos de procesos probados de nodos de tecnología previa.
En primer lugar, GLOBALFOUNDRIES y ARM dieron
a conocer los detalles de su tecnología de avanzada de plataforma
SoC en el tercer trimestre de 2009. Las compañías proyectan que la
plataforma de fabricación del nuevo chip permitirá un incremento del 40
por ciento en el desempeño informático, una disminución del 30 por
ciento en el consumo de energía y un incremento del 100 por ciento en
batería de reserva, en comparación con la generación de tecnología de 40
nm.
ACERCA DE GTC 2010
La Conferencia sobre Tecnología Global inaugural de GLOBALFOUNDRIES
ofrece exposiciones destacadas de líderes industriales y presentaciones
de miembros sénior de la gerencia de GLOBALFOUNDRIES y de los equipos
técnicos, con un énfasis especial en cómo la compañía alcanza su
liderazgo de tiempo-volumen aprovechando la colaboración global con
clientes y socios. GTC 2010 comienza el miércoles 1.º de septiembre en
el Centro de Convenciones Santa Clara, ubicado en el corazón del Silicon
Valley de California, y comienza con una serie de eventos “itinerantes”
de GTC 2010 que se realizarán en lugares internacionales estratégicos
como China, Taiwán, Japón y Europa. Para obtener más información sobre
GTC 2010, visite: http://www.globalfoundries.com/gtc2010/.
ACERCA DE GLOBALFOUNDRIES
GLOBALFOUNDRIES es la primera empresa de fundición semiconductora de
servicio completo del mundo, con una huella tecnológica y de fabricación
verdaderamente global. Lanzada en marzo de 2009 a través de una
asociación entre AMD [NYSE: AMD] y Advanced Technology Investment
Company (ATIC), GLOBALFOUNDRIES brinda una combinación única de
tecnología de avanzada, excelencia de fabricación y operaciones
globales. Con la integración de Chartered en enero de 2010,
GLOBALFOUNDRIES expandió significativamente su capacidad y habilidad de
brindar los mejores servicios de fundición de rango medio a fundición de
vanguardia. GLOBALFOUNDRIES tiene su sede central en Silicon Valley, con
operaciones de fabricación en Singapur y Alemania, y una nueva planta de
avanzada que se encuentra en construcción en Saratoga County, New York.
Estos sitios están respaldados por la red global de investigación y
desarrollo (Research & Development, R&D), habilitación de diseño y
respaldo al cliente en Singapur, China, Taiwán, Japón, Estados Unidos,
Alemania y el Reino Unido.
Para obtener más información sobre GLOBALFOUNDRIES, visite http://www.globalfoundries.com.
DECLARACIÓN PREVENTIVA
Este comunicado de prensa contiene declaraciones prospectivas,
realizadas en conformidad con las disposiciones de la política de
privacidad Safe Harbor establecida por la Ley de Reforma de Litigios
sobre Valores Privados de 1995 e incluyen, entre otras, declaraciones
acerca de las expectativas, suposiciones, evaluaciones, anticipaciones,
objetivos, planes, esperanzas, creencias, intenciones o estrategias
actuales de la compañía acerca del futuro. Por lo tanto, estas
declaraciones prospectivas están sujetas a riesgos e inseguridades que
podrían causar que los resultados reales difirieran sustancialmente.
Algunos de los factores que contribuyen a estos riesgos e incertidumbres
son las condiciones económicas prevalecientes tanto en los Estados
Unidos como en el resto del mundo, las dificultades inherentes a las
transacciones con clientes nuevos, las perspectivas de oferta y demanda
en la industria de la fundición/los semiconductores en general, la
estrategia de compras de la posible base de clientes, las acciones de la
competencia, el éxito de las alianzas tecnológicas de la empresa, el
progreso de la construcción de plantas manufactureras adicionales y de
los procesos gubernamentales relacionados, la disponibilidad de
componentes y equipo, los problemas de mano de obra y empleo en las
plantas manufactureras, el avance de los adelantos en la tecnología y
los procesos, y los acontecimientos imprevistos. La compañía no está
obligada a actualizar ninguna de las declaraciones prospectivas
contenidas en este comunicado de prensa sobre la base de información o
acontecimientos futuros.
El texto original en el idioma fuente de este comunicado es la versión
oficial autorizada. Las traducciones solo se suministran como adaptación
y deben cotejarse con el texto en el idioma fuente, que es la única
versión del texto que tendrá un efecto legal.